中科院上海光气所高密度光存储研究所在国家相关项目的反对下，在微纳结构的高速、大面积光学生产方面取得了最重要的进展。高密度光学存储研究所明确提出了基于非线性材料的微纳结构的光学生产新原理，并采用蓝光激光平写系统和高速旋转方法，在多层功能薄膜上建立了300nm ~ 90nm大小的微纳结构的高速大面积激光平写生产。平均写入速度为6m/s，是传统激光平书方法的数百倍以上。

大于特征大小的大约超过激光平写系统光斑的八分之一。随着光电及信息技术的发展，拒绝了具有非常高效、缓慢、大面积的微型或结构生产技术的发展。目前，离子束、电子束、极紫外、甚至硬x射线等也很难满足微纳米结构的高速大面积生产。

基于红外波段的远距离激光平写技术需要建立高效、慢、大面积的微米微计图形结构的生产，但受到光散射的无限限制，因此红外波段的远距离激光平写技术很难超过纳米尺度的特征大小。因此，不能展开纳米特征大小的给定结构生产。上海光机取得的这一成果，要妥善解决上述难题。

该技术在国内首次处于世界领先地位，在跨越尺度的给定微或图形结构、微电子广角领域的面膜、超高密度光盘主控制作等方面具有最重要的应用。。

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